Российский EUV-литограф 7нм от ИПФ РАН: первая цель - 28нм
ИПФ РАН разрабатывает отечественный EUV-литограф, который позволяет получать разрешение до 7нм. Пока что разработчики ставят перед собой в качестве ориентира условные нормы 28нм. Разработка займет ещ…
ВОЙТИ